NR73G 6000P光刻胶哪家好-北京赛米莱德公司
光刻胶的应用
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
期望大家在选购光刻胶时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多光刻胶的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！
光刻胶的主要技术参数
1．灵敏度（sensitivity）
灵敏度是衡量光刻胶*速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的*剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。
2．分辨率（resolution）
区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（cd，critical dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，nr73g 6000p光刻胶哪里有，光刻胶的分辨率越好。
光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：
(1) *系统的分辨率。
(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。
(3) 前烘、*、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。
想了解更多关于光刻胶的相关资讯，请持续关注本公司。
光刻胶的概述
光刻胶也称为光致*蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过*后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被溶解，只留下未受光照的部分形成图形；而负胶却恰恰相反，经过*后，受到光照的部分会变得不易溶解，经过显影后，nr73g 6000p光刻胶厂家，留下光照部分形成图形。
负胶在光刻工艺上应用早，其工艺成本低、产量高，但由于它吸收显影液后会膨胀，nr73g 6000p光刻胶，导致其分辨率（即光刻工艺中所能形成图形）不如正胶，因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术，主要使用正胶作为光刻胶。
赛米莱德——生产、销售光刻胶，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，nr73g 6000p光刻胶哪家好，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创*。
nr73g 6000p光刻胶哪家好-北京赛米莱德公司由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司为客户提供“光刻胶”等业务，公司拥有“赛米莱德”等品牌，专注于工业制品等行业。，在北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：苏经理。
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