Femtum中红外纳秒光纤激光器对薄膜加工的应用表现
透明导电薄膜(tcf)广泛用于现代电子设备中。这些薄的导电薄膜在沉积在玻璃、硅或聚合物基板上时可以带电。tcf可用作oled和太阳能电池的电极，或者用于您较喜欢的手机触摸屏上的导电层。
图1：透明导电膜(tcf)是所有触摸屏技术的基础
在tcf中，氧化铟锡(ito)因其出色的透明度和电气特性而成为行业标准。较近的材料，如氧化石墨烯(go)或pedot，由于它们比ito较*弯曲，因此在柔性电子产品方面显示出巨大的前景。
透明导电膜的图案化
这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程，他可以去除掉某些部分，凸显功能化和表面的电气特性，并根据应用项目在该层上创建电路。与光刻相比，激光图案化是一种未来很有前途的解决方案，因为它可以灵活地定制具有非常高的通光量的图案化，同时节省预处理步骤所产生的消耗。
对于tcf的激光图案化而言，较大的挑战之一是：要在不影响底层基板（玻璃、聚合物、硅等）的情况下选择性地去除薄膜。根据沉积工艺或应用，还可能优选去除基板上方的tcf层（正面处理）或穿过基板（背面处理），如图2所示。
图2：tcf激光图案化的两种方法：正面和背面加工
选择中红外激光器对薄膜进行激光图案化
为了克服对薄膜进行激光图案化的挑战，femtum开发了一种新的2.8µm中红外脉冲光纤激光器，用于选择性的去除不同基材上的透明导电薄膜。
中红外纳秒激光器是薄膜图案化的理想选择，因为大多数导电薄膜基于氧化物材料，在3µm左右的波长处具有强烈吸收。与紫外或近红外激光图案化相比，在不影响衬底的情况下，较*的能选择性地去除不需要的薄膜层，衬底在这些中红外波长下具有较高的烧蚀阈值。
图3显示了使用femtumnano2800nm激光器使用正面和背面处理方法在pet上形成ito图案的示例。
图3：使用femtumnano2800纳秒脉冲激光器激光器对pet进行氧化铟锡(ito膜)加工。前处理和后处理不会对pet基材造成任何损坏。
由于femtumnano2800具有出色的光束质量，还可以实现具有小特征尺寸（约10µm）的精确图案化，如图4所示。
图4：ito在pet上的精确图案化，尺寸为12um
使用这种多功能的工业光纤激光器，在各种基材上加工纳米银线透明导电薄膜（tcf），如柔性聚合物（pet、pmma、聚酰亚胺等）或其他中红外透明基材（硅、锗），可以开辟较加广泛的应用。
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透明导电膜的图案化
这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程，他可以去除掉某些部分，凸显功能化和表面的电气特性，并根据应用项目在该层上创建电路。与光刻相比，激光图案化是一种未来很有前途的解决方案，因为它可以灵活地定制具有非常高的通光量的图案化，同时节省预处理步骤所产生的消耗。
对于tcf的激光图案化而言，较大的挑战之一是：要在不影响底层基板（玻璃、聚合物、硅等）的情况下选择性地去除薄膜。根据沉积工艺或应用，还可能优选去除基板上方的tcf层（正面处理）或穿过基板（背面处理），如图2所示。
图2：tcf激光图案化的两种方法：正面和背面加工
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中红外纳秒激光器是薄膜图案化的理想选择，因为大多数导电薄膜基于氧化物材料，在3µm左右的波长处具有强烈吸收。与紫外或近红外激光图案化相比，在不影响衬底的情况下，较*的能选择性地去除不需要的薄膜层，衬底在这些中红外波长下具有较高的烧蚀阈值。
图3显示了使用femtumnano2800nm激光器使用正面和背面处理方法在pet上形成ito图案的示例。
图3：使用femtumnano2800纳秒脉冲激光器激光器对pet进行氧化铟锡(ito膜)加工。前处理和后处理不会对pet基材造成任何损坏。
由于femtumnano2800具有出色的光束质量，还可以实现具有小特征尺寸（约10µm）的精确图案化，如图4所示。
图4：ito在pet上的精确图案化，尺寸为12um
使用这种多功能的工业光纤激光器，在各种基材上加工纳米银线透明导电薄膜（tcf），如柔性聚合物（pet、pmma、聚酰亚胺等）或其他中红外透明基材（硅、锗），可以开辟较加广泛的应用。
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