真空镀膜机薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性:也能够理解为粗糙度,在光学薄膜的标准上看(也即是1/10波长作为单位,约为100a),真空镀膜机的均匀性现已相当好,能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内,也即是说关于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何妨碍。
2.化学组分上的均匀性:即是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性,sitio3薄膜,假如镀膜进程不科学,那么实践外表的组分并不是sitio3,而可能是其他的份额,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技能含量地点。
3.晶格有序度的均匀性:这决议了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技能中的热点问题。
多片式比较片装置的设计特点
1)固定筒圆筒形状、大直径、厚壁结构的设计和周向对称的固定方式,可保证其有足够的强度和刚度,同时,还可阻止高温溅射磨料对其内部零部件污染,保证拨动盘转动的灵活性。
2)圆形轴承座的设计,保证轴承座安装的密封性和垂直度;*轴的直径尺寸,加大轴承座中两轴承的安装间距,提高其自身的强度和刚度,保证转动过程中轴1的刚度和拨动盘的旋转灵活性、位置重复的一致性。
3)装载换位机构,通过扩大支承盘的直径,使该机构在平面方向的有效面积*,可安装直径大(φ26.5mm)的比较片,有利于光路调整,提高光学薄膜质量;比较片由单片玻璃作为一个比较片单元,比较片采用空间立体叠加安装方式,多片玻璃叠加安装在一个比较片存储筒内,实现一次可放置50~100片比较片,解决镀膜机镀制多层精密光学薄膜,比较片数量少影响镀膜层数和精度的问题。
4)定位盘与槽型光藕的配合,通过槽型光藕来感知定位盘上三个均分的120°狭缝,控制电机转动停止。轴1旋转定位重复的一致性得到保证,带动拨动盘完成准确的拨片动作。
5)转动密封馈入机构引入威尔逊密封机构,既保证电机通过齿轮啮合带动轴的灵活转动,又保证真空室对外部的密封作用。优化设计的真空镀膜机多片式比较片装置,其特点:(1)结构简单,强度高,可靠性好;(2)比较片装载数量大,生产效率提高,可镀制超多层精密光学薄膜;(3)比较片直径*,提高薄膜监控的精度,降低对硬件系统的要求,系统容易实现自动控制;
什么是真空镀膜技术?
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
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