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华诺激光承接各种图案定制,客户较好能提供包含尺寸的cad版设计图。如果画图实在有困难,我们可以根据客户描述来绘制,同时我们还能对客户的掩膜版设计提供一些建议。
掩膜版的应用
每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。
掩模和光刻工艺是很关键的,因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线,电子束和x射线也能用来对光刻胶进行曝光。
1、低开模费,可以按设计人员的设计要求进行掩膜图形任意更改,成本低
2、能实现金属的半刻,增加公司logo,实现品牌化生
3、可达+/-0.0075mm的精度,满足不同产品的组装要求
4、复杂外形产品同样可以蚀刻,无需额外增加成本
5、没有毛刺,压点,产品不变形,不改变材料性质,不影响产品的功能
华诺激光,立足北京,服务京津冀 北京、天津联手为您服务,梁工欢迎来电,欢迎莅临!我们将竭诚为您服务!
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