99.95%高纯钨片 磨光钨板
99.95%高纯钨片, 磨光钨板
产品名称：钨片 （钨箔，钨板，轧制钨片，磨光钨片等）
执行标准：可以满足国标或者美标
纯度：≥99.95%或者更高纯度
密度：≥19.1g/cm3
平整度：≤2%
制造工艺：烧结或者轧制后再加工
棒材表面：烧结，碱洗，轧制，铣光，磨光
钨片描述 钨片是通过粉末冶金方式生产，通过粉末压制成型，然后进行烧结，得到烧结钨板坯。对烧结钨板坯进行轧制，通过热轧，温轧和冷轧，可以获得不同的厚度。通过轧制后的板材，内部结构更为致密，密度更高，性能也更好。轧制也分方向，单向轧制和交叉轧制，一般情况下交叉轧制的钨片性能更为优越。
如果后续有加工处理，我们也提供退火处理，以消除产品内部应力，同时也防止产品后续出现再结晶现象。
钨片的特点 1.高密度：经过轧制后的钨片密度可达19.2g/cm3, 具有良好的质量和体积比，适用于需要高密度材料的应用。
2.高熔点和抗蠕变性好：钨片具有极高的熔点而且在高温下可以保持稳定，不容易氧化，可用于中长期高温环境，如真空炉、电子束熔炼和火箭发动机。
3.良好的导热性：钨具有良好的导热性，适用于需要高导热性的应用，如电子元件和半导体工业。
4.良好的导电率和较低的热膨胀系数：虽然不如铜等金属的导电率，但钨仍具有较好的导电率，再加上热膨胀系数低，所以钨在电气应用方面也比较常见。
5.高强度：尽管钨是一种脆性材料，但它在高温下仍具有良好的强度，适用于类似于电阻焊焊接等应用。
钨片尺寸 我们提供各种尺寸的钨片，以满足不同需求。以下是一些常见参数：
厚度 厚度公差 宽度 宽度公差 长度 长度公差 供应状态
＜0.2 ±0.02 10~150 ±2 500 ±2 冷轧
0.3 ±0.03 10~250 ±2 500 ±2
0.4 ±0.04 10~250 ±2 500 ±2
0.5 ±0.05 10~300 ±2 500 ±2
0.8 ±0.07 10~300 ±0.5 500 ±0.5
1 ±0.08 10~300 ±0.5 600 ±0.5
1.5 ±0.12 10~400 ±0.5 600 ±0.5
2 ±0.12 10~500 ±0.5 700 ±0.5
3 ±0.20 10~500 ±0.5 600 ±0.5 热轧
4 ±0.30 10~500 ±0.5 600 ±0.5
≥5.0 ±0.40% 10~550 ±0.5 600 ±0.5
钨片应用领域 1. 用于制作高温炉内加热元件如钨舟，隔热屏和发热体
2. 加工成半导体等离子注入类零件
3. 用于制作半导体用钨溅射靶材
4. 用于制作蒸镀用钨舟
5. 用做医疗射线管靶材的基体材料
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执行标准：可以满足国标或者美标
纯度：≥99.95%或者更高纯度
密度：≥19.1g/cm3
平整度：≤2%
制造工艺：烧结或者轧制后再加工
棒材表面：烧结，碱洗，轧制，铣光，磨光
钨片描述 钨片是通过粉末冶金方式生产，通过粉末压制成型，然后进行烧结，得到烧结钨板坯。对烧结钨板坯进行轧制，通过热轧，温轧和冷轧，可以获得不同的厚度。通过轧制后的板材，内部结构更为致密，密度更高，性能也更好。轧制也分方向，单向轧制和交叉轧制，一般情况下交叉轧制的钨片性能更为优越。
如果后续有加工处理，我们也提供退火处理，以消除产品内部应力，同时也防止产品后续出现再结晶现象。
钨片的特点 1.高密度：经过轧制后的钨片密度可达19.2g/cm3, 具有良好的质量和体积比，适用于需要高密度材料的应用。
2.高熔点和抗蠕变性好：钨片具有极高的熔点而且在高温下可以保持稳定，不容易氧化，可用于中长期高温环境，如真空炉、电子束熔炼和火箭发动机。
3.良好的导热性：钨具有良好的导热性，适用于需要高导热性的应用，如电子元件和半导体工业。
4.良好的导电率和较低的热膨胀系数：虽然不如铜等金属的导电率，但钨仍具有较好的导电率，再加上热膨胀系数低，所以钨在电气应用方面也比较常见。
5.高强度：尽管钨是一种脆性材料，但它在高温下仍具有良好的强度，适用于类似于电阻焊焊接等应用。
钨片尺寸 我们提供各种尺寸的钨片，以满足不同需求。以下是一些常见参数：
厚度 厚度公差 宽度 宽度公差 长度 长度公差 供应状态
＜0.2 ±0.02 10~150 ±2 500 ±2 冷轧
0.3 ±0.03 10~250 ±2 500 ±2
0.4 ±0.04 10~250 ±2 500 ±2
0.5 ±0.05 10~300 ±2 500 ±2
0.8 ±0.07 10~300 ±0.5 500 ±0.5
1 ±0.08 10~300 ±0.5 600 ±0.5
1.5 ±0.12 10~400 ±0.5 600 ±0.5
2 ±0.12 10~500 ±0.5 700 ±0.5
3 ±0.20 10~500 ±0.5 600 ±0.5 热轧
4 ±0.30 10~500 ±0.5 600 ±0.5
≥5.0 ±0.40% 10~550 ±0.5 600 ±0.5
钨片应用领域 1. 用于制作高温炉内加热元件如钨舟，隔热屏和发热体
2. 加工成半导体等离子注入类零件
3. 用于制作半导体用钨溅射靶材
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5. 用做医疗射线管靶材的基体材料
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