磁控溅射设备厂家-磁控溅射设备-沈阳鹏程
磁控溅射镀膜机的特点
擅长生长高质量的薄膜或是超薄 膜， 金属与绝缘材料.保证 的抽气速度， 与友厂对比，磁控溅射设备公司，氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延品质类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以保护磁铁不退磁. 客户可选择 rheed， 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的质量. sputter 24 均匀性及重现性非常出色， 可以使用dc， rf， 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射， 根据需求设计安装.
与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射， 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源， 可以提供样品清洗与辅助镀膜.
期望大家在选购磁控溅射产品时多一份细心，磁控溅射设备，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多磁控溅射产品的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！
磁控溅射系统介绍
想了解更多关于磁控溅射产品的相关资讯，请持续关注本公司。
真空泵和测量装置：
低真空：干泵和convectron真空规
高真空：涡轮分子泵，磁控溅射设备厂家，低温泵和离子规
5.控制系统：
硬件：plc和计算机触摸屏控制
自动和手动沉积控制
主要特点：
射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积
温度控制器：基底加热
大面积基底传送装置
冷却系统
双靶磁控溅射镀膜系统
设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。同时设备具有反溅射清洗功能，以提高膜的质量和牢固度。
设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（2个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
以上就是关于磁控溅射产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！
磁控溅射设备厂家-磁控溅射设备-沈阳鹏程由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支高素质的员工队伍，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。沈阳鹏程——您可信赖的朋友，公司地址：沈阳市沈河区凌云街35号，联系人：董顺。
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设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（2个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
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