电镀原理简单而言,就是在含有欲镀金属的盐类溶液中,以被镀基体金属为阴*,通过电解作用,使镀液中欲镀金属的阳离子在基体金属表面沉积出来,形成镀层。阴*上的电流密度不能过大,不能超过允许的上限值(不同的电镀溶液在不同工艺条件下有着不同的阴*电流密度的上限值)。超过允许的上限值以后,由于阴*附近严重缺乏金属离子的缘故,租电镀厂,在阴*的和凸出处会产生形状如树枝的金属镀层、或者在整个阴*表面上产生形状如海绵的疏松镀层。
vcp:垂直连续电镀,电路板使用的新型机台,比传统悬吊式电镀品质更佳。塑料电镀前,必须经过特殊的活化和敏化处理。保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸。电镀需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴*)和阳*构成的电解装置。其中电镀液成分视镀层不同而不同。
在阳*则发生与阴*完全相反的反应,即阳*界面上发生金属m的溶解,释放n个电子生成金属离子mn 。a、电*电位。电镀的要素:1.阴*:被镀物,指各种接插件端子。2.阳*:若是可溶性阳*,则为欲镀金属。若是不可溶性阳*,大部分为(白金,氧化铱)。电镀原理包含四个方面:电镀液、电镀反应、电*与反应原理、金属的电沉积过程。金属阳*与直流电源的正*联结,阳*与阴均浸入镀液中。
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